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双室真空炉 PQ2C - 来自中国供应商和工厂的高精度热处理设备
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双室真空炉 PQ2C - 来自中国供应商和工厂的高精度热处理设备

PQ2C系列双室真空炉是一款先进的智能热处理设备,专为高效高性能而设计。其创新的独立双室结构,包含预处理室和主处理室,优化了热处理工艺。预处理室有效集成了抽真空、预热和脱脂功能,确保高效去除工件表面的油脂和粘结剂等挥发性物质,防止高温烧结过程中的污染。同时,主处理室专为高温加热(最高可达1320℃)和可控冷却(气体淬火)而设计,保证了材料的致密化和性能提升。该真空炉广泛应用于航空航天、电子半导体、医疗器械和精密制造等众多行业,尤其​​适用于加工高价值、高精度零部件。通过显著提高产品产量和批次一致性,满足高端工业和科研领域对新型材料日益增长的需求。作为中国领先的制造商和供应商,我们工厂致力于提供高品质真空炉,满足现代精密制造和先进材料研发的需求。立即了解 PQ2C 系列,提升您的生产能力!

    特征 01

    预处理室和主处理室采用独立温控和真空隔离,支持连续生产,缩短工艺周期

    预处理室配备梯度加热和真空脱脂系统,可精确分解有机物,避免结焦和碳残留。

    两个房间之间安装了可靠的真空门,以确保预处理室与主处理室完全隔离,并且两个房间在处理过程中互不干扰。

    双室独立PLC+工业计算机管理,支持过程参数联动编程、数据追溯和远程操作维护,降低操作复杂性。

    工件可在不同的真空度下加热(10)。-2约10-6 mbar)以避免表面氧化和脱碳,并确保材料的纯度和光洁度

    预处理室和主处理室均采用多区独立温控,结合PID算法,可实现±5℃的炉温均匀性,具有良好的温控精度。

    主加工室内的集成式氮气/氩气混合气体淬火系统,结合高效换热器,显著提高了冷却均匀性,并能适应不同材料的特性。

    集成PLC,带程序控制器或计算机接口、触摸屏、记录仪等实时监测炉真空度、温度、压力等数据,支持远程故障诊断和过程追溯。

    通用规格 02

    型号 PQ2C-2000
    有效工作区域尺寸:宽×高×长(毫米) 1000×1000×1400
    温度 最高工作温度1320℃/正常工作温度540~1280℃
    冷却压力 0.87 至 2.8 巴 腹肌 (选修的)
    搬运重量约(公斤) 2000
    装机容量(千瓦) 500

    常见问题解答 常问问题

    两室设计如何提高生产效率?

    预处理室和主处理室均采用独立的温度控制和真空隔离。这种设计支持连续生产,并显著缩短了整个工艺周期。

    该真空炉能达到怎样的温度均匀性?

    两个腔室均采用多区域独立温度控制,并结合 PID 算法,实现了 ±5℃ 的高精度炉温均匀性。

    该系统如何防止工件氧化和脱碳?

    工件可在不同的真空度下加热,真空度范围从 10 到 10-2 至10-6 mbar,有效避免表面氧化和脱碳,同时保证材料纯度和表面光洁度。

    PQ2C-2000 型号的尺寸和处理能力是多少?

    PQ2C-2000 型号的有效工作区域为 1000×1000×1400 毫米(宽×高×长),最大搬运重量约为 2000 公斤。

    该系统是否支持远程监控和诊断?

    是的,集成的PLC和工业计算机接口支持实时监测真空度、温度和压力,以及远程故障诊断和过程数据跟踪。